Jenoptik präsentiert breites Produktspektrum auf der SPIE BiOS 2015.

Beinahe täglich gibt es neue Entwicklungen in der Photonik-Industrie. Auch die Jenoptik-Sparte Laser & Materialbearbeitung arbeitet permanent daran, ihre Produkte zu verbessern und an die stetig steigenden Kundenanforderungen anzupassen. Auf Stand 8916 in der Südhalle des Moscone Centers präsentiert Jenoptik aktuelle Neuheiten und Weiterentwicklungen für verschiedenste medizinische Anwendungen.

Hochleistungs-Halbleiterlaser mit 760 Nanometer

Jenoptik erweitert ihr Produktportfolio für medizinische Anwendungen mit Hochleistungs-Halbleiterlasern, die bei 760 Nanometer emittieren. Diese Wellenlänge, die bisher nur mit Alexandrit-Lasern erreichbar war, wird in der Dermatologie und der medizinischen Haarentfernung genutzt. Die neuen 760-Nanometer-Halbleiterlaser sind effizient, robust, zuverlässig und für medizinische Anwendungen voll qualifiziert. Mit einem Füllfaktor von 30 Prozent und einer Resonatorlänge von 1,5 mm liefern die Laserbarren 40 Watt optische Leistung bei einer Effizienz (WPE) von über 50 Prozent.

Auf der SPIE BiOS präsentiert Jenoptik Strahlquellen auf Basis dieser neuartigen Halbleiter. Diese sind hocheffizient und zeichnen sich durch eine kompakte und leichte Bauweise aus. Die Halbleiter-Stacks bieten den Kunden eine Brauchwasserkühlung und ein Fenster für eine einfache Integration in Dermatologie-Handstücke. Darüber hinaus sind die neuen Halbleiter an die Pulslängen und Wiederholraten angepasst, die für die thermokinetische Selektivität und somit die moderne Epilation notwendig sind.

Erfahren Sie mehr auf der SPIE BiOS in San Francisco vom 7. bis 8. Februar 2015 in der Südhalle des Moscone Centers, Stand 8916.

Bilder stehen in der Jenoptik-Bilddatenbank unter Laser & Materialbearbeitung / Presse zum Download bereit.

Jena, 08. Januar 2015