Shanghai Chengwei Semiconductor Equipment erweitert Produktionskapazität für hochreine Gasversorgungssysteme für Zentrallabore

Shanghai Chengwei Semiconductor Equipment erweitert Produktionskapazität für hochreine Gasversorgungssysteme für Zentrallabore

SHANGHAI, CHINA – Moderne Fertigungsanlagen und Hightech-Forschungszentren erfordern eine strenge Kontrolle der Chemikalienzufuhr, der Betriebssicherheit und der Mikroverunreinigungsprofile. Um diesen präzisen Anforderungen moderner Fertigungsprozesse gerecht zu werden, hat Shanghai Chengwei Semiconductor Equipment Co., Ltd. eine strategische Erweiterung ihrer Produktionskapazitäten am Standort Shanghai angekündigt. Diese industrielle Skalierung zielt auf die Herstellung des automatisierten zentralen Laborgasversorgungssystems und der hochreinen Flüssigkeitsverteilungsleitungen ab und bietet damit eine sicherere, zuverlässigere und digital überwachte Alternative zu herkömmlichen dezentralen Gasanlagen.


Hochreine halbautomatische Umschaltverteiler aus Edelstahl
Der Übergang von einzelnen, lokal an den Laborarbeitsplätzen platzierten Gasflaschen zu einem automatisierten, zentralen Versorgungssystem markiert einen entscheidenden Entwicklungsschritt für industrielle Analyselabore und Testbereiche der Mikroelektronik. Durch die Zusammenlegung von Hochdruckgasflaschen, Flüssigkeitsbehältern und Spezialtanks in separaten externen Lagern oder speziellen Gaskammern isolieren moderne Anlagen potenzielle Gefahrenquellen effektiv. Die Designprotokolle von Shanghai Chengwei trennen toxische, brennbare und unter Hochdruck stehende Anlagen von den Reinraummitarbeitern und minimieren so strukturelle Risiken bei gleichzeitig maximaler Nutzung der wertvollen Laborfläche.

 

Die Versorgungsinfrastruktur nutzt fortschrittliche Metallurgie und automatisierte Steuerungssysteme, die in den Reinräumen der Klasse 100 des Unternehmens gefertigt werden. Hochreine Kreisläufe bestehen aus nahtlosen, elektropolierten Edelstahlrohren nach ASTM A269 316L. Dadurch werden interne Ausgasungen und die Abgabe von Mikropartikeln minimiert, die empfindliche Instrumente wie GC-MS- und ICP-MS-Systeme beeinträchtigen könnten. Die Verteilerleitungen werden mittels automatisierter Orbital-WIG-Schweißverfahren unter konstanter Argon-Spülung verbunden. Dieses Verfahren verhindert interne Schweißnahtoxidation und sorgt für extrem glatte Fluidleitungen, um Spurenverunreinigungen auszuschließen.

 

Die Betriebssicherheit wird durch eine integrierte digitale Infrastruktur gewährleistet. Zentrale Verteilknoten sind mit differenziellen automatischen Gasflaschenumschaltanlagen ausgestattet . Diese Systeme überwachen die Verbrauchsraten mehrerer Flaschengruppen in Echtzeit und schalten von einer leeren Flaschenleitung auf eine Reservegruppe um, ohne Druckschwankungen oder Arbeitsablaufunterbrechungen in nachgelagerten Bereichen zu verursachen. Für reaktive, brennbare oder pyrophore Prozessgase nutzt die Infrastruktur automatisierte Gasschränke mit kontinuierlicher Sicherheitsüberwachung, automatische Notabschaltventile und koaxiale Doppelrohrleitungen.

 

Die letzte Ebene der strukturellen Lieferung umfasst an den einzelnen Analysestationen angebrachte Bedienfelder, die Wissenschaftlern eine präzise lokale Steuerung der mehrstufigen Druckregelung, der Durchflussraten und der sekundären Absperrung ermöglichen. Nach der Montage führen die Installationsteams strenge, mehrstufige Konformitätsprüfungen durch, darunter die Lecksuche mit Helium-Massenspektrometern bis hin zu den Standard-Reinheitsvakuumgrenzen, kombiniert mit Hochdruck-Stickstoff-Haltetests zur Überprüfung der Dichtheit der Gleitringdichtung.

 

Die Implementierung dieser fortschrittlichen Gasnetze optimiert den Flächenbedarf, reduziert den Rohstoffverbrauch und gewährleistet stabile Betriebsbedingungen. Diese strukturelle Entwicklung erfüllt strenge internationale Fertigungsrichtlinien, senkt die Betriebs- und Wartungskosten und bietet eine kontinuierliche, hochsichere Grundlage für fortgeschrittene wissenschaftliche Forschung, Materialentwicklung und die Skalierung von Halbleiterstrukturen.


Halbleiter-Fluidkontrollsysteme und -Komponenten
Über Shanghai Chengwei Semiconductor Equipment Co., Ltd.:
Shanghai Chengwei Semiconductor Equipment Co., Ltd. (CWSC) ist ein spezialisiertes Engineering- und Fertigungsunternehmen, das sich auf Infrastruktur für die Zufuhr von hochreinen Gasen, Chemikalien und Suspensionen für die Halbleiter- und Hightech-Fertigungsindustrie konzentriert. Das Unternehmen mit Hauptsitz im Shanghaier Stadtbezirk Songjiang betreibt eine 4,000 Quadratmeter große Anlage mit einer 2,500 Quadratmeter großen Reinraumproduktionsfläche und einem 500 Quadratmeter großen Reinraum der Klasse 100. CWSC liefert hochpräzise Systeme, die die Substratbehandlung unterstützen, Kontaminationen minimieren und die Chemikalienverteilung in Waferfertigungsanlagen weltweit regulieren.

 

Pressekontakt:
James Yuan
Unternehmen: Shanghai Chengwei Semiconductor Equipment Co., Ltd.
Adresse: Nr. 9, Gasse 345, Minshen Road, Songjiang District, Shanghai, China
Telefon: + 86-13380377051
[email protected]
Web: https://www.chengweisemi.com/