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Parker stellt eine CHO-SEAL®-EMI-Abschirmdichtung mit niedriger Härte für den militärischen und zivilen Einsatz vor

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Das weichere CHO-SEAL® 1299 von Parker Chomerics bietet eine hervorragende Dichtwirkung und Korrosionsbeständigkeit

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Die Chomerics-Sparte der Parker Hannifin Corporation, dem weltweit führenden Anbieter von Bewegungs- und Steuerungstechnologien, hat eine neue EMI-Abschirmdichtung mit niedriger Härte für den Einsatz in militärischen und zivilen Elektronikanwendungen vorgestellt. CHO-SEAL® 1299 weist eine geringere Härte (typischerweise nur 45 Shore A) auf als viele herkömmliche leitfähige Elastomerdichtungen und bietet dennoch eine hochwirksame Abschirmung sowie Korrosionsbeständigkeit gegenüber Aluminium.

CHO-SEAL® 1299 ist eine elektrisch leitfähige EMI-Abschirmungsdichtung aus Elastomer, die aus passivierten, versilberten Aluminiumpartikeln in einem Fluorsilikon-Bindemittel besteht. Das neue Material bietet eine höhere Temperaturbeständigkeit als die meisten leitfähigen Fluorsilikone (bis zu 200 °C im Dauereinsatz) und ist beständig gegen aggressive Chemikalien wie Bearbeitungskühlmittel, Hydraulikflüssigkeiten, Mineralöle und verschiedene Kraftstoffe.

Zwar gehört das Vorgängermodell CHO-SEAL® 1298 zu den bewährtesten Produkten von Chomerics, doch erfordert das Material zum Zusammendrücken mehr Kraft, als bestimmte Anwendungen aufbringen können. Parker hat CHO-SEAL® 1299 entwickelt, um Kunden die gewohnte Leistung in einer weicheren Ausführung zu bieten.

Mit einer Härte von nur 45 Shore A (35 % weicher als CHO-SEAL® 1298) ist CHO-SEAL® 1299 aufgrund seiner geringen Kompressionskraft ideal für EMI-Abschirmungsanwendungen geeignet, darunter militärische Kommunikationsmodule, unbemannte Luftfahrzeuge (UAVs), Marine- und Schiffselektronik, tragbare Elektronikgeräte sowie Robotikausrüstung. Das neue RoHS-konforme Material schützt vor dem Eindringen von Staub, Feuchtigkeit und mehr und ist bahnbrechend für die vielen Anwendungen in elektronischen Geräten, die Designflexibilität erfordern, ohne die Wirksamkeit der EMI-Abschirmung zu beeinträchtigen.

Ein häufiger Anwendungsfall sind Dichtungen für Steckverbinder-Schnittstellen. Bei kleineren Steckverbindern kann es aufgrund der erforderlichen hohen Kraft besonders schwierig sein, ein leitfähiges Elastomermaterial auch nur geringfügig zusammenzudrücken. Der Zugang zu einem weicheren Material kommt Kunden zugute, die mit einer ähnlichen Herausforderung konfrontiert waren. 

Als elektrisch leitfähiges Fluorsilikon-Elastomer bietet CHO-SEAL® 1299 eine hervorragende EMI-Abschirmung über ein breites Frequenzspektrum. Beispielsweise erreicht das neue EMI-Dichtungsmaterial gemäß der Prüfmethode MIL-DTL-83528 (Absatz 4.5.12) eine Mindestabschirmwirksamkeit von: 128 dB bei 100 MHz (E-Feld); 102 dB bei 500 MHz (E-Feld); 110 dB bei 2 GHz (ebene Welle); 122 dB bei 10 GHz (ebene Welle) und 94 dB bei 18 GHz (ebene Welle).

Während die Vorgängerversion eine Dehnung von 60 % aufweist, erreicht CHO-SEAL® 1299 gemäß der Prüfmethode ASTM D412 eine Dehnung von 100 %. Die überlegene Dehnung sorgt für größere Flexibilität und Duktilität, wodurch sich das neue Material an unregelmäßige Oberflächen anpassen und Verformungen standhalten kann, ohne zu brechen. Diese Eigenschaft ist entscheidend für die Aufrechterhaltung einer wirksamen Abdichtung und Abschirmung gegen elektromagnetische Störungen (EMI) und erleichtert zudem den Einbau der Dichtung.

CHO-SEAL® 1299 ist in geformter Ausführung erhältlich, darunter O-Ringe, D-Ringe oder kundenspezifisch geformte Teile. Parker Chomerics bietet das neue Material zudem in Plattenform für zugeschnittene Dichtungen an. Das Plattenmaterial kann mittels Stahlstanze, X-Y-Messerschneidverfahren oder Wasserstrahlschneiden (nicht-abrasiv) gestanzt werden, um Präzisionsteile in großen Stückzahlen herzustellen. Bei Bedarf kann das Plattenmaterial mit einem elektrisch leitfähigen, druckempfindlichen Acrylkleber (PSA) versehen werden, um den Montageprozess zu erleichtern. Darüber hinaus wird CHO-SEAL® 1299 in Kürze auch als extrudierte Profile erhältlich sein.