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XYZ Nano-In Position bringenstadium für Lithographie-System Laser-3D

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Piezo nano-in Position bringensystemsfachmann PU (Physik Instrumente) liefert ein nano-in Position bringenstadium mit 3 Mittellinien, das in einem Romanlaser-Lithographiesystem von Nanoscribe GmbH eingesetzt wird

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Das Lithographiesystem kann Maßstrukturen des Komplexes 3 produzieren, vollautomatisch und wiederholbar mit einer nicht erreichbaren Präzision und einer Flexibilität vorher. Submikronstrukturen mit Größen bis 1 der Millimeter und Breiten bis 150 Nanometer sind durchführbar

Piezo: Die treibende Kraft

Die treibende Kraft von Nanoscribe? das s-Laser-Lithographiesystem ist ein PImars P-563 Biegung-geführt, piezo-gefahrenes nanopositioning XYZ Stadium von PU. Es stellt die Positionierung der Strecken zu den Mikrons 300x300x300 und zur Nanometerstreckenwiederholbarkeit zur Verfügung. Ein Parallelmetrologie Positionsrückgesprächsystem, das auf in hohem Grade linearen kapazitiven Sensoren basiert, ist integriert und erlaubt, dass die Probe genau und wiederholt in Beziehung zu dem Laser-Fokus verschoben wird. Ein digitaler piezo Bewegungssteuerpult stellt die notwendige Wegsteuerung auf einer nanometric Skala zur Verfügung.

Die hohe Genauigkeit und die schnelle Antwort des piezoelektrischen nano in Position bringenstadiums macht es möglich, Oberflächen mit bestimmten biometrischen Eigenschaften auszurüsten oder Mikrostrukturen für kleine Pumpen und Nadeln zu verursachen. Typische Anwendungen für Lithographie Laser-3D sind die Kreation der dreidimensionalen Strukturen für Zellenbiologie.