NEU: Patronenfilter by Schenck Process

Der Mac2Flo ermöglicht die kostengünstige Filterung von feinsten Partikelgrößen im Submikron-Bereich. Die staubgefüllte Luft wird an der Filteroberseite eingelassen und nach unten befördert, sodass selbst feine und leichte Stäube effizient und mit geringer Endgeschwindigkeit abgesetzt werden können. In jeder Filterpatrone lassen sich bis zu 23,5 m² Filtermedien unterbringen. So wird mit einem relativ kompakten Gehäuse ein hohes Filterpotenzial ausgeschöpft.

Das modulare Design sorgt für geringe Investitionskosten. Eine Erweiterung ist jederzeit problemlos möglich.

Die Filterpatronen lassen sich ganz ohne Werkzeug entnehmen, was wiederum die Wartungskosten auf ein Minimum reduziert.

Die Installationskosten sind aufgrund der kurzen Aufbauzeit ebenfalls gering.

Durch die reduzierten Druckluftanforderungen werden zudem Energiekosten eingespart.

Das kompakte Design benötigt nur wenig Platz.

Typische Einsatzgebiete des Mac2Flo sind Bereiche mit geringen Staubmengen und großen Luftmengen wie z. B.:

Rauch/Staub bei der Stahlherstellung

Staubfilterung in MCC-Räumen

Vorfilter für große Antriebe

Schweißrauchabzug

Prüflabors