Bornitrid-Keramik (BN) Teile für Plasmakammern

Bornitrid-Keramik (BN) Teile für Plasmakammern

Bornitrid wird oft auch als "weißer Graphit" bezeichnet, da es eine ähnliche Schichtstruktur wie Graphit aufweist. Sie verfügen über hervorragende Eigenschaften in Bezug auf die Hochtemperaturbeständigkeit, einschließlich hoher Durchschlagfestigkeit, Wärmeleitfähigkeit und ausgezeichneter chemischer Inertheit, die die Herausforderungen in einigen der anspruchsvollsten Anwendungsbereiche lösen können.

Bornitridkeramik (BN) ist in Plasmaumgebungen aufgrund ihrer Sputterbeständigkeit und ihrer geringen Neigung zur Erzeugung von Sekundärionen, selbst in Gegenwart starker elektromagnetischer Felder, einzigartig. Die Sputter-Resistenz trägt zur Verlängerung der Lebensdauer der Komponenten bei, während die geringe Erzeugung von Sekundärionen zur Aufrechterhaltung der Integrität der Plasmaumgebung beiträgt. Daher werden Bornitridkeramiken (BN) häufig verwendet, um den Plasmalichtbogen in der Sputterkammer auf das Targetmaterial zu begrenzen und die Erosion integraler Komponenten in der Prozesskammer zu verhindern.