Pyrolytischer Bornitrid/PBN-Plattenheizer

PBN-Plattenheizung

CVD ist eine vielseitig begabte Technologie, die erlauben kann, dass viele verschiedenen freistehenden Formen hergestellt werden, sowie Schichten auf einer Vielzahl der verschiedenen Substratmaterialien.

PBN Produkte sind für Gebrauch in der Moleculaar Lichtstrahl-Epitaxie (MBE), Metallin der organischen chemischer Dampf-Absetzung (MOCVD), im Kristallwachstum und in anderen Anwendungen gut angepasst, in denen Stabilität des hohen Reinheitsgrades und der Chemikalie angefordert werden. Die anisotrope Leitfähigkeit von PBN verbessert Prozessleistung für Kristallwachstum, ob die Wachstummethode Flüssigkeit eingekapseltes Czochralski (LEC) oder vertikaler Steigung-Frost (VGF) ist.

Flache und Röhrenheizungselemente können produziert werden, indem man eine Leitschicht des pyrolytischen Graphits (SEITE) auf ein isolierendes Substrat von PBN niederlegt. Eine Schiene kann in der SEITEN-Schicht dann maschinell bearbeitet werden, die durch eine Mantelschicht PBN dann geschützt werden kann. Diese Heizungen haben eine sehr schnelle Antwort und ein niedriges Thermalmass. Sie werden ideal für Gebrauch im ultra hohen Vakuum oder ätzende chemische Umwelt entsprochen.

PBN Eigenschaften, seine tatsächliche Reinheit, überlegene mechanische Stärke und Wärmebeständigkeit treffen es eine großartige Wahl für Hochtemperaturofen und elektrische Bestandteile, Mikrowellen- und Halbleiterbestandteile und Industrie stadardized Tiegel für Galliumarsenid-Kristallproduktion.