Halbleiterproduktion

Überblick über Analysemethoden zur Überwachung kritischer Qualitätsparameter

Metrohm freut sich, einen kostenlosen Überblick über Analysemethoden zu präsentieren, die zur Überwachung kritischer QC-Parameter in der Halbleiterproduktion eingesetzt werden.

Die in dieser Übersicht vorgestellten Methoden werden zur Überwachung der Wasserreinheit, von Säuren in Ätzbädern, der Konzentration von Metallsalzen in Galvanisierungsbädern und ionischen Verunreinigungen verwendet. In dieses Dokument sind Hyperlinks zu zahlreichen Anwendungshinweisen und mehreren White Papers eingebettet, sodass detaillierte Informationen zu den meisten dieser Anwendungen mit einem einzigen Mausklick verfügbar sind.

Um den Zugang zu erleichtern, sind die Methoden nach den verschiedenen Phasen des Herstellungsprozesses strukturiert, von der Überwachung der Reinheit der Rohstoffe über das Ätzen, Plattieren, Verpacken auf Waferebene, Einkapselung und Laminierung von Leiterplatten bis hin zur Überwachung der Rückgewinnung von Chemikalien und der Abwasserbehandlung.