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Park Systems stellt Park NX-IR R300 Infrarotspektroskopie für die Halbleiterindustrie vor
Park NX-IR R300, ein Infrarot-Spektroskopiesystem (IR) im Nanomaßstab für industrielle Anwendungen.
Park Systems, ein führender Hersteller von Systemen für Rasterkraftmikroskopie (AFM) und Nanometrologie, hat sein neuestes Produkt vorgestellt, das Park NX-IR R300, ein Infrarotspektroskopiesystem (IR) im Nanomaßstab für industrielle Anwendungen.
Park NX-IR R300 ist Infrarotspektroskopie und Rasterkraftmikroskopie integriert in einem, für bis zu 300 mm Halbleiterwafer. Es liefert Informationen zu chemischen Eigenschaften sowie mechanische und topografische Daten für die Halbleiterforschung, Fehleranalyse und Defektcharakterisierung mit einer beispiellos hohen Nanoauflösung.
Das Park NX-IR R300 kombiniert die fortschrittlichste IR-Spektroskopie der photoinduzierten Kraftmikroskopie (PIFM) mit der branchenführenden Park NX20 300-mm-AFM-Plattform. Die PIFM-Spektroskopie bietet eine chemische Identifizierung unter einer räumlichen Auflösung von 10 nm. Es verwendet eine berührungslose Technik, die eine beschädigungsfreie Spektroskopiesondierung, höchste Auflösung und Genauigkeit während des gesamten Scans bietet. Darüber hinaus liefert das Park PIFM dem Benutzer Spektroskopieinformationen in verschiedenen Tiefen und bietet unschätzbare Einblicke in die Probenzusammensetzung.
„Das Park NX-IR R300 ist ein bedeutender Fortschritt in unserem Portfolio von Nanomesslösungen“, sagte Dr. Sang-il Park, CEO von Park Systems. „Es repräsentiert unsere kontinuierliche Expansion in neue Innovationsbereiche für Nanometermikroskopie-Tools für Ingenieure und Wissenschaftler in Industrie und Forschungslabors. Wir sind zuversichtlich, dass Park NX-IR R300 zu einem unverzichtbaren Tool für Industriekunden werden wird, die die chemische Zusammensetzung analysieren müssen ihre Materialien mit höchster Genauigkeit."
Weitere Informationen zum Park NX-IR R300 finden Sie unter https://www.parksystems.com/products/industrial/infrared-spectroscopy/park-nx-iri