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Park Systems kündigt Park NX-Mask an, eine Fotomasken-Reparatur für EUV und In-Line

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Fotomasken-Reparatursystem für hochwertige EUV-Maskenreparaturen

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Park Systems, ein weltweit führender Hersteller von Rasterkraftmikroskopen, kündigte Park NX-Mask an, das effektivste, sicherste und effizienteste Reparaturgerät für Fotomasken der neuen Generation.

Park NX-Mask bietet optimierte Lösungen, die zwei Pods für die Handhabung von EUV-Masken in der Inline-Produktion unterstützen. Sie bietet eine Komplettlösung - von der automatischen Fehlerprüfung über die Reparatur von Fehlern bis hin zur Verifizierung der Reparatur - und beschleunigt so den Durchsatz bei einer noch nie dagewesenen Reparatureffizienz

"Park NX-Mask ist das fortschrittlichste AFM-basierte Fotomasken-Reparatursystem für die High-End-EUV-Halbleiterfertigung sowie für F&E und Maskenwerkstätten. Außerdem ist es das kostengünstigste System auf dem Markt", sagte Richard Lee, Leiter der Produktmarketingabteilung von Park Systems.

Park NX-Mask repariert selbst die anspruchsvollsten Fotomasken, indem es Defekte und Fremdpartikel mit einer Genauigkeit im Nanometerbereich und einer Präzision der Kantenplatzierung im Angström-Bereich entfernt. Dies geschieht ohne Beeinträchtigung des reflektierenden Oberflächenmusters und ohne störende Ablagerungen wie Flecken und implantierte Elemente.

Die automatische Defektüberprüfung ist Standard bei Park NX-Mask, eine praktische Funktion für EUV-Maskenreticles, die einen hohen Durchsatz und eine hohe Auflösung ermöglicht, ohne die zerstörerischen Risiken anderer Methoden wie E-Beam und Laser. Darüber hinaus bietet Park NX-Mask eine vollautomatische AFM-Nanomessung für die Oberflächenrauheit und die Musterschritthöhe. Dies geschieht mit vertikaler Präzision im Sub-Angström-Bereich im berührungslosen Scan-Modus.

Für weitere Informationen über Park NX-Mask: http://parksystems.com/nx-mask/